本文標(biāo)題："金屬熱加工固溶體脫溶產(chǎn)物分析圖像顯微鏡"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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金屬熱加工固溶體脫溶產(chǎn)物分析圖像顯微鏡
普遍脫溶在整個(gè)固溶體中發(fā)生的脫溶現(xiàn)象,并析均勻分布的脫溶物
稱(chēng)普遍脫溶。該脫溶方式使合金具有較好的力學(xué)性能和較的疲勞強(qiáng)度,
并降低合金的應(yīng)力腐蝕敏感性。
局部脫溶普遍脫溶之前,優(yōu)先在基體的某些局部區(qū)域形成新相核心
并長(zhǎng)大,使該區(qū)域較早出現(xiàn)脫溶相質(zhì)點(diǎn)脫溶過(guò)程和其他大多數(shù)固態(tài)相變
一樣,新相晶核一般容易在晶界、亞晶界、位錯(cuò)、空位、層錯(cuò)及夾雜等
缺陷處優(yōu)先形成。之所以如此是因?yàn)?一,晶界、亞晶界等處為高能量
區(qū),位錯(cuò)、空位等本身具有一定的能量,新相在這些缺陷處形核時(shí),其原
具有的能量將予釋放,幫助新相形核;二,缺陷處的原子易于遷移;三,缺
陷處晶界比較松散,利于松弛相變應(yīng)變,減小相變阻力,此外位錯(cuò)附近的
溶質(zhì)原子氣團(tuán)也利于新相核心的形成。因上述原因,大多數(shù)固態(tài)相變均
趨向于這種非均勻形核方式。局部脫溶的結(jié)果,使晶界或相界過(guò)早出現(xiàn)
脫溶產(chǎn)物,在緊靠晶界附近的一帶狀區(qū)域不出現(xiàn)脫溶產(chǎn)物,形成晶界無(wú)
沉淀帶。其帶寬與熱處理?xiàng)l件有關(guān)。提高淬火加熱溫度和淬火冷卻速
度,降低時(shí)效溫度均利于減小無(wú)沉淀帶的寬度。無(wú)沉淀帶成因機(jī)制有:
一為貧溶質(zhì)機(jī)制,即晶界處優(yōu)先脫溶,吸納了附近的溶質(zhì)原子,致使周?chē)?/div>
基體中溶質(zhì)貧乏,不再析出脫溶產(chǎn)物;二是晶界附近的空位可能逸人晶
界而消失,使晶界附近空位貧乏,脫溶產(chǎn)物難以形成。一般認(rèn)為,無(wú)沉淀
帶的形成與這兩種機(jī)制都相關(guān),高溫時(shí)效時(shí)以貧溶質(zhì)機(jī)制為主,低溫時(shí)
效時(shí)則貧空位機(jī)制起主要作用。
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