本文標題："微量分析,質譜分析是檢驗體材料的最通用的方法"
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微量分析,質譜分析是檢驗體材料的最通用的方法
化學分析
體材料
質譜分析是檢驗體材料的最通用的方法。其基本程序是眾所
采用質譜方法以后，已經(jīng)得到了比較純的原材料和體晶體；然而這種
方法只能確定雜質的數(shù)量而不能鑒別其活性——后者必須用與此
不同的方法來確定。后面將討論質譜在薄膜分析中的應用。
發(fā)射光譜是用于微量分析的最老的方法之一。同質譜一樣，
這個方法可以采用火花激發(fā)源。發(fā)射光譜法使用一個光柵將發(fā)射
光分離成為有用的光譜。發(fā)射光譜的靈敏度一般低于質譜。
通過有意地加入已知雜質并與質譜結果進行對照的方法，
已經(jīng)可以進行定性分析。由光致發(fā)光外推所得到的附加訊息就可
以了解雜質的活性。這種鑒定方法本來是用于半導體表面分析的
——為了得到作為層內深度的函數(shù)關系，就需要逐層剝離。磷化
銦的逐層腐蝕至今還沒有得到任何結論，這很可能是由于暴露的
自由表面實際上掩蓋了體內可能出現(xiàn)的變化。發(fā)光測量在發(fā)光器
件的發(fā)展中具有重要的意義；但是，在材料的發(fā)光特性和微波器
件之間還沒有得到任何可以進行比較的關系。
X射線技術
將X射線與電子顯微鏡聯(lián)合起來使用，就可以進行雜質分
析。如將X射線分光光度計裝到主體顯微鏡上，就更容易直接觀
察所研究的區(qū)域，并且分辨率比較好，可以達到1微米。但是，
電子顯微鏡的限制是沒有一個好的晶體分析器能在整個質量范圍
內給出最佳的靈敏度。最輕元素的靈敏度大約從lOppm下降到
1000ppm。
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